第4年
奧林巴斯 通用探頭
奧林巴斯 AxSEAM半自動掃查器
奧林巴斯 VersaMOUSE相控陣探頭進行
奧林巴斯 Vanta手持式XRF X射線熒光
奧林巴斯 激光共焦顯微鏡
奧林巴斯 曲面陣列探頭
奧林巴斯 STM7-BSW顯微鏡
奧林巴斯 NORTEC 600渦流探傷儀
奧林巴斯 MapSCANNER手動雙軸掃查器
USPM-RU III反射儀可精確測量當前分光儀無法測量的微小、薄樣本的光譜反射率，不會與樣本背面的反射光產生干涉。是十分適合測量曲面反射率、鍍膜評價、微小部品的反射率測定系統。
消除背面反射光
采用特殊光學系統，消除背面反射光。
不必進行背面的防反射處理，可正確測定表面的反射率。可測定微小區域的反射率
用物鏡對焦于樣本表面的微小光斑（?60 μm），可以測定鏡片曲面及鍍膜層是否均勻。測定時間短
由于使用了Flat Field Grating（平面光柵）和線傳感器的高速分光測光機構，可以進行快速、再現性很高的測定。支持XY色度圖、L*a*b*測定
可以依據分光測色法，通過分光反射率測定物體顏色。可以測定高強度鍍膜的膜厚
采用干涉光分光法，可以在不接觸、無損的情況下測定被檢物的膜厚（單層膜）。
| 測定波長 | 380 nm～780 nm |
|---|---|
| 測定方法 | 與參照樣本的比較測定 |
| 被檢物N.A. | 0.12（使用10×物鏡時） 0.24（使用20×物鏡時） * 與物鏡的N.A.不同。 |
| 被檢物W.D. | 10.1 mm（使用10×物鏡時） 3.1 mm（使用20×物鏡時） |
| 被檢物的曲率半徑 | -1R ～-∞、+1R～∞ |
| 被檢物的測定范圍 | 約?60 μm（使用10×物鏡時） 約?30 μm（使用20×物鏡時） |
| 測定再現性（2σ） | ±0.1%（380 nm～410 nm測定時） ±0.01%（410 nm～700 nm測定時） |
| 顯示分辨率 | 1 nm |
| 測定時間 | 數秒～十幾秒（因取樣時間而異） |
| 光源規格 | 鹵素燈 12 V 100 W |
| 載物臺Z方向驅動范圍 | 85mm |
| PC接口 | USB方式 |
| 裝置重量 | 機身：約20 kg（PC、打印機除外） 光源用電源：約3 kg 控制器盒：約8 kg |
| 裝置尺寸 | 機身： 300（W）×550（D）×570（H） mm 光源用電源： 150（W）×250（D）×140（H） mm 控制器盒： 220（W）×250（D）×140（H） mm |
| 電源規格 | 光源用電源： 100 V（2.8 A）/220 V AC 控制器盒： 100V（0.2A）/220V AC |
| 使用環境 | 水平且無振動的地方 溫度： 23±5 °C 濕度： 60%以下、無結露 |
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